Raggi Uv e smog sono i principali responsabili della formazione di radicali liberi, nulla di nuovo. Nuovo è però l’approccio di Shiseido Future Solution Lx Universal Defense, che miscela un filtro ad ampio spettro, efficace in ogni condizione, e un complesso di polveri sferiche e polveri piatte in grado di assorbire le polveri sottili presenti nell’aria e prevenire la penetrazione di queste nano particelle negli strati più profondi dell’epidermide.
© RIPRODUZIONE RISERVATAIn caso di citazione si prega di citare e linkare beautybiz.it
